すっかり桜の花は散ってしまいましたが、日増しに暖かくなり過ごしやすい毎日となりましたね。

さて、日本写真学会のセミナーのお知らせです。学会ですからこのようなお堅いイベントもありますが、これらを通じて将来の身近なモノが生まれてきます。

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第13回日本写真学会光機能性材料セミナー
日時：平成２８年６月２０日（月）９時３０分から１６時１０分（受付開始：９時）
会場：東京工芸大学　中野キャンパス 芸術情報館 ３階 大会議室
〒164-8678 東京都中野区本町2-9-5
今回テーマ：『光機能性を活かす構造制御技術』
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次世代の機能性材料の創出を目的に、構造制御により従来にない新しい光機能性を発現させる取組みや光機能性新規材料の研究開発が、近年、盛んに行われています。第１３回セミナーでは、「光機能性を活かす構造制御技術」と題して、光情報デバイスに関わる透明光学フィルム、刺激応答性分子集合体、フォトン・アップコンバージョン材料、有機超分子の発光ならびにペロブスカイト半導体に関する基礎から最新のトピックスに関する講演を企画致しました。
光機能性材料に関連する研究者の良い情報交換の場に致したく、多数の方々のご参加をお願いいたします。

－　セミナープログラム　－
詳細はこちら　⇒　http://spstj.org/event/nissya_e_syosai_145.html

講演１。有機超分子の発光　－分子をどのように集め、光らせるか－
（東京大学生産技術研究所　：　務台　俊樹）
講演２。　準安定状態を利用した光機能性分子集合体
（千葉大学大学院工学研究科　：　矢貝　史樹）
講演３。　フォトン・アップコンバージョン材料の新展開
（九州大学大学院工学研究院　：　楊井　伸浩）
講演４。　光情報デバイスに関わる透明光学フィルムの開発
(東京工業大学　名誉教授　JST連携研究員：　渡辺　順次)
講演５。　ペロブスカイト半導体CH3NH3PbX3の光物性と光キャリアダイナミクス
（千葉大学大学院理学研究科　：　山田　泰裕）

【参加費】：日本写真学会および協賛学協会会員；5,000円、非会員；10,000円
学生会員；1,000円　　学生非会員；2,000円
【参加事前申込方法】　（参加事前申込締切　2016年6月10日（金））
Web申込はこちら⇒　http://spstj.org/event/form_nissya_event.php?id=145
E-mail：spstj@pht.t-kougei.ac.jp 、Fax：03-3299-5887
【参加事前申込締切】：2016年6月10日（金）